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沉金、镀金、镍金、钯金、厚金、薄金、浸金,到底差在哪?一篇讲透所有金工艺!

文章来源:小编 更新时间:2026-04-28 09:17:40

沉金、镀金、镍金、钯金、厚金、薄金、浸金,到底差在哪?一篇讲透所有金工艺!

       做硬件、射频、PCB打样、微组装的工程师,最容易被各种金工艺搞晕:

沉金、镀金、镍金、化金、厚金、薄金、钯金、浸金……

名字一大堆,差一个字,成本、可靠性、高频性能、焊接性、键合性天差地别。

     今天不讲废话,按名称俗称→结构→工艺流程→优缺点→适用→禁忌→成本,

把所有表面处理一次性讲透,看完再也不会选错。

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一、先统一概念:所有金工艺,本质就两大类

1. 化学金(沉金/化金):无电、靠化学反应 → 平整、适合BGA。

2. 电镀金(镀金):通电电镀 → 厚、耐磨、适合插拔/键合。

所有“镍金、钯金、厚金、薄金”,都是这两类的细分。

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二、沉金(ENIG)= 化学镍金(最常用)

全称:Electroless Nickel Immersion Gold。

中文:化学镀镍 + 置换镀金。

行业俗称:沉金、化金、镍金。

1. 结构(非常关键)

铜 → 化学镍层 3~5μm → 金层 0.05~0.1μm。

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2. 加工工艺流程

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3. 核心特点

平整度极高→ 完美适配BGA/QFN/密脚IC。

焊接稳定,不易虚焊。

存储时间长。

成本中等,量产首选。

4. 致命缺点(高频必懂)

含镍!镍是铁磁性材料(μr≈100~600),导电率仅铜的1/4。

      高频信号因趋肤效应,会穿透薄金进入镍层,造成磁滞损耗+涡流损耗,频率越高,损耗越大,因此射频/毫米波板严禁使用。

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【镍对高频影响到底多大?量化数据支撑】

材料关键参数对比

铜:电导率59.6×10 S/m,μr≈1,1GHz趋肤深度≈2.06μm

金:电导率45.2×10 S/m,μr≈1,1GHz趋肤深度≈2.38μm

镍:电导率仅14.3×10 S/m,μr≈100~600,1GHz趋肤深度≈0.17μm

损耗量化(微带线,行业实测)

1GHz:含镍工艺插损比裸铜/沉银高40%~80%

10GHz:含镍工艺插损比无镍工艺高100%~200%

28GHz/77GHz毫米波:含镍工艺插损增加3~5倍,直接影响灵敏度与距离

根本原因

1镍磁导率极高,趋肤深度极浅,有效导电面积大幅缩小。

2镍导电率仅铜1/4,导体损耗急剧上升。

3磁滞+涡流损耗随频率平方增长,高频呈爆炸式恶化。

5. 适用/禁忌

适用:消费电子、BGA、大批量量产。

禁忌:射频/高频/毫米波、插拔、金手指。

三、沉钯金(ENEPIG)= 镍+钯+金(高端沉金)

全称:Electroless Nickel Electroless Palladium Immersion Gold。

行业俗称:钯金、沉钯金、无黑盘沉金。

1. 结构

铜 → 化学镍 → 钯层 0.05~0.1μm → 金层。

2. 工艺流程

比沉金多一步化学镀钯,其余完全一致。

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3. 核心特点

彻底解决沉金黑盘问题。

可靠性极高。

成本比沉金贵30%~50%。

4. 高频问题

依然含镍 → 高频损耗依然巨大,射频板不推荐。(损耗幅度与沉金接近,仅可靠性提升,射频性能无改善)

5. 适用/禁忌

适用:汽车电子、医疗、军工、高可靠。

禁忌:射频/高频板。

四、电镀金(通电镀金)= 厚金、薄金、硬金、软金

行业俗称:镀金、电镀金、电镀金。

1. 结构(行业99.9%)

铜 → 电镀镍 5~8μm → 电镀金 0.1~3μm。

2. 工艺流程

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3. 关键结论:镀金一定含镍吗?

正常PCB电镀金 → 一定含镍!镍是附着力层、应力缓冲层、阻挡层,不可省略。

不含镍的“纯金工艺”不叫镀金,叫浸金(DIG)。

4. 厚金 vs 薄金

薄金:0.1~0.3μm成本低,适合测试点、简易金手指。

厚金:0.5~3μm适合金丝键合、高频连接器、军工。

5. 硬金 vs 软金

硬金(钴镍合金):耐磨 → 金手指、插拔、连接器。

软金(纯金):键合专用 → 芯片焊盘、金丝球焊。

6. 为什么电镀金不适合射频?

不是金不行,是镍不行!只要有镍,就会带来巨大高频损耗。

电镀薄金也无法避免,因为镍层依然存在。(损耗数据同沉金:10GHz插损增100%+,毫米波增3~5倍)

7. 为什么电镀厚金不适合SMT焊接?

1润湿性差,焊锡不吃金。

2金锡形成脆性IMC金属间化合物,焊点易裂。

3平整度差,BGA易虚焊。

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厚金只能键合,不能焊接!

8. 射频微组装板正确用法

键合盘:局部电镀厚金(≥0.5μm)。

射频导线:绝对不镀金,用OSP/沉银/浸金。

若必须全板镀金:导线用极薄金0.05~0.1μm,利用趋肤效应让信号走铜。

五、浸金(DIG)= 无镍纯金工艺(射频专用)

全称:Direct Immersion Gold。

俗称:直接浸金、无镍金、纯金表面处理。

1. 结构

铜 → 金(无镍!无钯!无镍!)。

2. 工艺流程

铜面直接进行置换反应沉积金,无镍、无电镀。

3. 特点

完全无镍 → 射频/毫米波性能最优。

平整度高。

金层极薄(0.02~0.05μm)。

不可键合、不可插拔、不可加厚。

4. 适用/禁忌

适用:射频、微波、毫米波、高频传输线。

禁忌:金丝键合、插拔、高可靠。

六、其他主流表面处理(完整版)

1. OSP(有机保焊膜)

结构:铜 → 透明有机保护膜。

特点:无镍、最便宜、高频优秀、怕刮。

适用:射频板、低成本板、BGA。

2. 喷锡(热风整平)

结构:铜 → 锡层。

特点:便宜、焊接好、不平整。

禁忌:BGA、高频板。

3. 沉银

结构:铜 → 银。

特点:无镍、高频极佳、易硫化。

适用:射频、高频、高速PCB。

4. 沉锡

结构:铜 → 锡。

特点:无镍、平整、焊接好、存储短。

适用:经济型高频板。

七、全工艺完整对比表

工艺名称

俗称

结构

是否含镍

平整度

焊接性

键合性

射频/高频性能

主要用途

禁忌

沉金

ENIG

镍金、化金

铜→镍→金

含镍

极高

极好

不可

差(损耗增3~5倍)

BGA、消费电子

沉钯金

ENEPIG

钯金

铜→镍→钯→金

含镍

极高

极好

不可

差(同沉金)

汽车、医疗、军工

电镀金

镀金

铜→镍→金

含镍

一般

键合、金手指

全板使用、BGA

电镀厚金

厚金

铜→镍→厚金

含镍

一般

极差

优秀

金丝键合

射频导线、焊接

电镀薄金

薄金

铜→镍→薄金

含镍

一般

一般

测试点、简易金手指

射频导线

浸金

DIG

无镍金

铜→金

无镍

不可

顶级(接近裸铜)

射频、毫米波

OSP

抗氧化

铜→有机膜

无镍

极高

不可

顶级

射频、低成本

接触、插拔

沉银

沉银

铜→银

无镍

不可

顶级

射频、高频

恶劣环境

喷锡

热风整平

铜→锡

无镍

不可

电源、插件板

BGA、高频

沉锡

沉锡

铜→锡

无镍

不可

优秀

经济型高频

高可靠

八、最终灵魂总结(工程师必背)

1镍金 = 沉金,都含镍,都不适合射频。

2钯金 = 沉钯金,更可靠,但也含镍,也不适合射频。

3镀金 = 电镀金,必含镍,所以射频损耗大。

4厚金用于键合,薄金用于触点,都不能用于射频导线。

5只有浸金是无镍纯金工艺,射频性能最好,但不能键合。

6射频微组装板标准方案:

传输线 → 浸金/沉银/OSP

键合盘 → 局部电镀厚金

7镀金≠浸金:

镀金=有镍、可厚、可键合

浸金=无镍、很薄、射频专用

8镍对高频是毁灭性影响:10GHz插损翻倍、毫米波增3~5倍,一切源于高磁导率+低导电率。

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